50. Jaká je hlavní složka rozpouštědla pro suchý proces?

Běžně používaná rozpouštědla "suchou metodou" sestávají hlavně z následujících složek: (1) Kyselina chlorovodíková (HCl) s koncentrací 31 % (360 g/L, Boehmeův stupeň nad 19) nebo vyšší se přímo používá jako rozpouštědlo; (2) Jako rozpouštědlo se použije vodný roztok chloridu zinečnatého (ZnCl2); (3) Jako rozpouštědlo se použije vodný roztok chloridu amonného (NH4CI); (4) Jako rozpouštědlo se používá vodný roztok podvojné soli chloridu amonného a chloridu zinečnatého.
Hlavním rozpouštědlem používaným v továrně na žárově zinkované ocelové trubky v Číně- je směsný solný roztok chloridu amonného a chloridu zinečnatého.